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• Abscheidung Phosphordotierter SiO 2 -Schichten zur Passivierung von optoelektronisch-integrierten Empfängern Riemenschneider, Rolf Als Ms. gedr., Düsseldorf : VDI-Verl., 1996

• Aufbringung von Siliziumoxidschichten durch Plasma-CVD und Anwendung auf Beschichtungen in einer Plasma-Wirbelschicht Bayer, Christian Als Ms. gedr., Düsseldorf : VDI-Verl., 1998

• Koppelstrukturen für integrierte optische Schaltungen auf Silizium Zurhelle, Dieter Als Ms. gedr., Düsseldorf : VDI-Verl., 1996

• Modellierung heterogener Reaktionen auf Siliziumdioxidoberflächen unter Berücksichtigung von Verdünnungseffekten Daiß, Andreas Als Ms. gedr., Düsseldorf : VDI-Verl., 1997

• Reaktionssintern von Alpha-Al 2 O 3 und verschiedenen SiO 2 -Modifikationen zu Mullit Zusammenhang zwischen Mullitisierung, Sintermechanismen und Gefügeentwicklung Albers, Waltraud Als Ms. gedr., Düsseldorf : VDI-Verl., 1995