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Titelaufnahme

    Titel
    Aufbringung von Siliziumoxidschichten durch Plasma-CVD und Anwendung auf Beschichtungen in einer Plasma-Wirbelschicht / Christian Bayer
    VerfasserBayer, Christian
    ErschienenDüsseldorf : VDI-Verl., 1998
    Ausgabe
    Als Ms. gedr.
    UmfangXIV, 146 S. : Ill., graph. Darst.
    HochschulschriftZugl.: Zürich, Techn. Hochsch., Diss.
    Bibl. ReferenzDiss. ETH 12502
    Serie
    Fortschritt-Berichte VDI : Reihe 3, Verfahrenstechnik ; 534
    SchlagwörterHexamethyldisiloxan / PECVD-Verfahren / Mikrowellenplasma / Wirbelschichtverfahren / Siliciumdioxid / Dünne Schicht
    ISBN3-18-353403-7
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